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工艺技术特点

2017/6/16 | 来自: future

      我们运用世界上最为先进的低温(80℃~500℃)Arc100CF双磁场过滤阴极弧和线性离子源真空镀膜技术,将具有更高硬度、更强结合力和更均匀的薄膜运用于工具、刀具、模具以及有高耐磨要求的零部件。与现行的物理蒸发技术相比,我公司超强镀膜技术,由于靶材离化率接近100%以及高强度的受控磁场,因此所沉积的薄膜具有硬度更高、与基件的结合力更强、薄膜厚度更加均匀、薄膜中所含杂质颗粒更少,综合性能更加优良等特点。而且因为是低温PVD镀膜技术,对于基材的选择可以更加广泛。

      我们的整个镀膜系统包括了真空室以及数个阴极弧源和线性离子源组成。系统由工业控制计算机和可编程逻辑控制器控制,整个镀膜过程实现完全的自动化,从而使得薄膜的质量和重复性得到精确的控制。

技术特点:
      1、靶材的离化率接近100%
      2、颗粒平均能量更高,约为传统离子溅射的十多倍
      3、薄膜的硬度更高。比传统的磁控离子溅射薄膜的硬度约高500~700HV
      4、薄膜与基体的结合力更强
      5、与其它接近技术相比,薄膜中有害杂质更少
      6、在相同材料和厚度的条件下,薄膜的综合性能更为卓越
      7、镀膜时工件温度低,工件温度小于500℃,对基材带来更小的破坏
质量保证:
      我们拥有完整的涂层质量测试仪器,包括划痕仪,球磨仪、洛氏/维氏硬度计等为新涂层的开发,及涂层的出货质量提供保证。